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真空電鍍的特點(diǎn)主要包括哪些?

2020-09-22 15:31:27

1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形。

2、工作電壓不是很高(200V),操作方便,但設(shè)備較昂貴。3、蒸鍍鍋瓶容積小,電鍍件出數(shù)少,生產(chǎn)效率較低。

4、只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁、銀、銅、金等)鍍飾。5、對(duì)鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來(lái)彌補(bǔ)工件表面缺陷。6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。

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